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无掩膜紫外光刻机(A-WZBX0949)采购公告

基本信息
项目名称 省份
业主单位 业主类型
总投资 建设年限
建设地点
审批机关 审批事项
审批代码 批准文号
审批时间 审批结果
建设内容





项目名称 无掩膜紫外光刻机 项目编号 A-WZBX0949
公告开始日期 2024-04-22 00:39:01 公告截止日期 2024-04-25 02:00:00
采购单位 物理科学与技术学院 付款方式
联系人 成交后在我参与的项目中查看 联系电话 成交后在我参与的项目中查看
签约时间要求 到货时间要求 签约后30个工作日内
预算总价 登录即可免费查看.00 + NaN + NaN
发票要求 增值税普通发票 增值税专用发票
含税要求
送货要求
安装要求
收货地址 物理楼114室
供应商资质要求
符合《政府采购法》第二十二条规定的供应商基本条件
公告说明



采购清单1
采购商品 采购数量 计量单位 所属分类
无掩膜紫外光刻机 1 无 无

品牌 品牌1
型号
品牌2
型号
品牌3
型号
品牌4
型号
品牌5
型号
品牌6
型号
预算单价 登录即可免费查看.00
技术参数及配置要求 1. ★光刻精度:
至少支持两个光刻镜头:
光刻镜头1:最小线宽≤1.2 μm,工作距离≥19 mm;
光刻镜头2:最小线宽≤0.8 μm,工作距离≥12 mm
2. ★具备交互式套刻指引功能
3. ▲具备图像识别对焦功能
4. ★支持光刻镜头电动切换
5. 曝光波长:405 nm
6. ★数字掩模板分辨率:≥1920 * 1080,微镜尺寸≤7.6 um
7. 显微观测:支持显微观测且不会引起光刻胶变性
8. ▲样品厚度:≥8 mm
9. ▲样品尺寸:≥80 mm *80 mm
10. ★支持样品电动旋转
11. 样品吸附:支持样品吸附
12. ★设备软件:
原位光绘功能
物像绑定功能
成像拼接功能
畸变矫正功能
13. 画图软件:支持阵列画图、套刻画图
参考链接
售后服务 商品承诺:送货上门/安装调试/技术培训;1年免费质保期;



2024-04-22 00:39:01
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